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寺岡 有殿
no journal, ,
半導体デバイス製造プロセスでは、ナノメータースケールの微細加工が必要となりつつある。また、人工衛星や宇宙ステーションではその表面に相対的に高速の原子・分子が衝突するため、材料劣化と高速原子・分子の衝突との関係は興味深いところである。原子・分子線と固体表面との化学反応に関する研究は、近年では実用材料での極薄膜形成や劣化の模擬試験にその必要性が高まってきている。本講演では2000年から稼働し始めた原子力機構専用SPring-8ビームライン;BL23SUの表面化学実験ステーションで行われてきた分子線と固体表面との化学反応に関する実験を紹介し、表面反応ダイナミクス研究の将来を展望する。